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氧化镓,99.8%（高纯试剂）
CAS号：12024-21-4 分子式：Ga2O3
MDL：MFCD00011020
产品规格
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| 品牌 | 货号 | 期货/现货 | 规格 | 价格 | 数量 |
|---|---|---|---|---|---|
| 罗恩 | R007238-5g | 现货 | 5g | 58 折扣中 |
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| 罗恩 | R007238-25g | 现货 | 25g | 158 |
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| 剑颀 | R007238-100g | 现货 | 100g | 586 |
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| 剑颀 | 需求量较大，更多产品规格和价格请联系我们张经理（电话/微信：13761527386），为您定制报价与合作方案。 | 现货 | 吨 | 0 |
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详情介绍
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化合物简介
Gallium(III) oxide (Ga2O3) is a chemical compound used in vacuum deposition and as part of the manufacturing of semiconductor devices.
基本信息
CAS：12024-21-4
中文别名：三氧化二镓;
英文别名：oxo(oxogallanyloxy)gallane;Gallium trioxide;Gallium oxide;Gallium(III) oxide;
分子式：Ga2O3
分子量：187.444
精确质量：185.836
Psa：43.37
中文别名：三氧化二镓;
英文别名：oxo(oxogallanyloxy)gallane;Gallium trioxide;Gallium oxide;Gallium(III) oxide;
分子式：Ga2O3
分子量：187.444
精确质量：185.836
Psa：43.37
Logp：-0.8426
生产方法
1.向三氯化镓GaCl3的热水溶液中加NaHCO3的高浓热水溶液,煮沸到镓的氢氧化物全部沉淀出来为止。用热水洗涤沉淀至没有Cl-为止,在600℃以上煅烧则得到β-Ga2O3。残留NH4Cl时,在250℃就和Ga2O3反应,生成挥发性GaCl3。 用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。 用作高纯分析试剂、半导体材料。
用途
用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。 用作高纯分析试剂、半导体材料。
13761527386
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沪(金)应总管危经许[2024]201219
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